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加熱形式

常規爐 立式 箱管混合式 回轉爐

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加熱溫度

300-1200 1250-1500 1600-2000

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單溫區(qū) 雙溫區(qū) 三溫區(qū) 多(duō)溫區(qū) 感應加熱專用(yòng)

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  • 小(xiǎo)型4合1軟包電(diàn)池真空封口機 （電(diàn)池Max 100x100x12mm）
  • 1200℃ 小(xiǎo)型自動下裝(zhuāng)載爐（爐膛尺寸150×155×180mm）
  • 碳化矽坩埚（外徑50 x 内徑43 x 高度50 mm，(67ml))
  • 1400℃ 真空/氣氛微波箱式爐
  • 手動固體(tǐ)粉末加料器（玻璃材質(zhì)，250ml）
  • 壓力可(kě)控型冷軋機（最大壓力10T，軋輥Φ200×250mm，可(kě)選電(diàn)動液壓泵）
  • 1700℃混合爐（箱式1.7L&管式 内徑40mm剛玉管，程序控溫）
  • 2T電(diàn)動熱壓機（1200℃ 石墨&Si3N4模具(jù)，可(kě)手套箱内使用(yòng)）
  • 24T自動化壓片機（程序控制可(kě)與機械手配合，帶組裝(zhuāng)&脫模功能(néng)）
  • 快速熱壓爐（1600℃&100MPa,在手套箱中(zhōng)）
  • 300℃高溫循環油浴系統（可(kě)選5-30L）
  • 氣體(tǐ)增壓系統（惰性氣體(tǐ)或O2，60MPa,用(yòng)于高溫高壓爐）
  • 1200℃自動化管式爐（150mm管徑，用(yòng)于AI材料實驗）
  • 1100℃微波等離子CVD回轉爐（Φ50mm爐管）
  • 1100℃小(xiǎo)型微波箱式爐
  • 1100℃微波加熱管式爐（可(kě)選25mm或50mm直徑爐管）
  • 桌面式紫外臭氧清洗機（自動開/關門，清洗面積300×300mm,可(kě)選加熱樣品）
  • 混合式手動加壓夾具(jù)（數顯壓力值（可(kě)選50kg或100kg）,用(yòng)于軟包電(diàn)池測試）
  • 1200℃三溫區(qū)管式箱式混合爐
  • 1200℃六通道高潔淨氫氣爐
  • 4頭電(diàn)弧熔煉系統（旋轉水冷銅坩埚）
  • 500g電(diàn)弧熔煉吸鑄系統（電(diàn)磁攪拌功能(néng)，可(kě)抽真空，水冷系統）
  • 1200℃雙溫區(qū)立式熱解爐（配備幹粉氣溶膠發生器，高壓粉末收集罐）
  • 氮化矽（Si3N4）分(fēn)離式扣式電(diàn)池測試裝(zhuāng)置（用(yòng)于高溫下固态電(diàn)池研究）
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