A-Z晶體(tǐ)及材料 加熱爐系列 樣品處理(lǐ)設備 電(diàn)池制備設備 分(fēn)析檢測設備 其他(tā)實驗室設備 技(jì )術支持/服務(wù)培訓
| 設備名(míng)稱 | 0.7L等離子清洗機(配真空計,3"Dx 6.5"L石英腔室,13.56Mhz)-PDC-36G （2019.11.26—科(kē)晶實驗室審核） |
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| 産(chǎn)品提示 | |||||||||||||
| 相關視頻 |
操作(zuò)視頻 |
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| 設備特點 | ·結構緊湊、小(xiǎo)型化的桌上型儀器 ·用(yòng)各種氣體(tǐ)清洗和去除晶片上納米級有(yǒu)機污染物(wù)。 ·在制膜實驗之前預先清潔鍍膜基底的優秀工(gōng)具(jù)。清洗後鍍膜的質(zhì)量可(kě)以更好。 ·鉸鏈式門，方便裝(zhuāng)樣 ·石英腔的直徑是3英寸，在裏面可(kě)以放入一個石英舟，最大清洗一個2英寸的基片。 ·清洗腔裏面的石英管可(kě)以拆卸，方便清洗和更換 ·使用(yòng)可(kě)調射頻電(diàn)源，可(kě)以設置功率為(wèi)低、中(zhōng)、高級别；低成本、操作(zuò)安(ān)全。
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| 主要參數 | ·等離子直流電(diàn)源：
·射頻源輸出頻率：13.56MHz； ·輸入電(diàn)壓：220V,50Hz； ·壓力範圍：1-1999TOrr； 更多(duō)參數請聯系科(kē)晶銷售部 |
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| 機體(tǐ)結構 | 等離子腔室：·直徑75mmx長(cháng)200mm的石英牆體(tǐ)，前蓋可(kě)以開啓。 ·高純度石英腔體(tǐ)，使用(yòng)壽命比玻璃長(cháng)。 閥門：·1/8英寸針閥控制進氣。 ·1/8英寸三通球閥控制氣體(tǐ)進出。 真空計：設備标配一個電(diàn)阻規和數顯電(diàn)阻真空計用(yòng)于實時監測清洗倉内的真空度。
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| 工(gōng)作(zuò)氣體(tǐ) | ·多(duō)種氣體(tǐ)可(kě)以用(yòng)于等離子清洗，例如氮氣、氩氣、空氣、混合氣體(tǐ)，主要取決于處理(lǐ)何種材料。 ·可(kě)以使用(yòng)<4％的H2混合惰性氣體(tǐ) |
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| 等離子清洗及刻蝕的方法 |
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| 工(gōng)作(zuò)原理(lǐ) | |||||||||||||
| 外形尺寸 | ·353mm（L）x380mm（W）x225mm （H）
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| 淨重 | （不含泵）8kg |
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| 質(zhì)保期 | 一年保修，終身技(jì )術支持。 特别提示：1.耗材部分(fēn)如加熱元件，石英管，樣品坩埚等不包含在内。2.因使用(yòng)腐蝕性氣體(tǐ)和酸性氣體(tǐ)造成的損害不在保修範圍内。 點擊查看售後服務(wù)承諾書 |
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| 認證 | ·此産(chǎn)品已通過CE認證 證書編号：M.2021.206.C67994 ·若客戶出認證費用(yòng)，本公(gōng)司保證單台設備通過德(dé)國(guó)TUV認證或CAS認證
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科(kē)晶應用(yòng)技(jì )術實驗室用(yòng)此設備清洗基片，清除表面污染物(wù)，以供參考。
清洗前向基片上滴入0.05ml水滴，其結果如圖所示。通入氩氣清洗十分(fēn)鍾後，向基片上滴入0.05ml水滴，其結果如圖所示。 | ||
石英 |
圖1 清洗前 | 圖2 清洗後 |
矽片 |
圖3 清洗前 | 圖4 清洗後 |
應用(yòng)技(jì )術提示 | 1、使用(yòng)時間不建議超過一小(xiǎo)時。 2、如果清洗機腔室，不能(néng)立即充氣，油會回流到腔室污染系統。真空泵需安(ān)裝(zhuāng)防回油裝(zhuāng)置。 3、為(wèi)保護設備，設備工(gōng)作(zuò)後能(néng)立即關機，但關機後最好在10秒(miǎo)後再開機工(gōng)作(zuò)。 4、腔室需定期進行清洗。 |
警示 | 1、腔室内不能(néng) 通入正壓。 2、真空狀态下不要打開前級法蘭，防止損壞玻璃室。 5、此設備不能(néng)使用(yòng)可(kě)燃性、腐蝕性及有(yǒu)毒有(yǒu)害氣體(tǐ)。 |
可(kě)選配件 | 1、您可(kě)以訂購(gòu)額外的石英腔體(tǐ)，用(yòng)于備用(yòng)。 |
2、如果需要一個通入兩種氣體(tǐ)的工(gōng)藝解決方案，PDC-36G等離子清洗機可(kě)以與2路混氣系統組合。
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3、您可(kě)以訂購(gòu)石英晶片載體(tǐ)來清潔2英寸晶片。
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4、您可(kě)選配雙極旋片式真空泵進行抽真空。
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