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1200℃ALD-PECVD管式爐系統
- 型号:
- ALD-1200X-4
- 産(chǎn)品概述:
- ALD-1200X-4是一款4英寸管式爐系統,包含用(yòng)于原子層沉積的2個ALD進氣閥、1個精(jīng)密液體(tǐ)氣相發生器以及用(yòng)于CVD生長(cháng)納米材料和薄膜材料的4通道質(zhì)子流量計控制系統。該管式爐系統簡潔的設計使得更多(duō)的科(kē)研院所能(néng)夠在可(kě)負擔的低成本情況下實現ALD工(gōng)藝實驗。
免責聲明:
本站産(chǎn)品介紹内容(包括産(chǎn)品圖片、産(chǎn)品描述、技(jì )術參數等)僅用(yòng)于宣傳用(yòng)途,僅供參考。由于更新(xīn)不及時和網站不可(kě)預知的BUG可(kě)能(néng)會造成數據與實物(wù)的偏差,請勿複制或者截圖。如果您對參數有(yǒu)異議,或者想了解産(chǎn)品詳細信息及更多(duō)參數,請與本公(gōng)司銷售人員聯系。本站提供的信息不構成任何要約或承諾,請勿将此參數用(yòng)于招标文(wén)件或者合同,科(kē)晶公(gōng)司會不定期完善和修改網站任何信息,恕不另行通知,請您諒解。
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技(jì )術參數産(chǎn)品視頻實驗案例警示/應用(yòng)提示配件詳情
控制面闆
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· 蒸汽壓力、ALD以及氣體(tǐ)流量參數均可(kě)通過一6英寸接觸屏由PLC進行控制 · 兩個ALD進氣閥 · 請點擊下圖查看控制面闆(點擊圖片查看詳細資料)
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産(chǎn)品特點
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1.配備雙通道ALD氣閥 2.配備氣液混合系統 3.多(duō)種加熱區(qū)與質(zhì)子流量計規格可(kě)選 4.模塊化設計,自由的搭建方案
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ALD進氣閥
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兩個ALD脈沖電(diàn)磁閥(最小(xiǎo)可(kě)在10ms完成閥門的開啓或關閉) |
精(jīng)密液體(tǐ)氣相發生器
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精(jīng)密液體(tǐ)氣相發生器包含在本系統中(zhōng)并且連接到ALD進氣閥 |
雙溫區(qū)管式爐
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· 連續工(gōng)作(zuò)的最高溫度為(wèi)1100℃ · 兩個溫區(qū)由兩個獨立的溫控系統來控制,而且都為(wèi)50段程序化控溫 · 每個加熱區(qū)長(cháng)度為(wèi)200mm,加熱區(qū)總長(cháng)度為(wèi)400mm · 爐管兩端放置管堵時兩溫區(qū)的最大溫度差為(wèi)500℃ · 輸入電(diàn)壓:208-240V AC,單向 · 最大功率為(wèi)4KW |
防腐型數顯真空計
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· 測量範圍:3.8x10-5 -1125 Torr · 耐腐蝕 · 對于氣體(tǐ)的壓力檢測具(jù)有(yǒu)較高的精(jīng)确度和重複性 · 可(kě)實現快速的氣體(tǐ)監測,響應時間較短 · 易于更換插頭及傳感元件
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真空泵(選配)
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· 管内真空度可(kě)達10-2Torr · 真空泵不包含在本系統内,如您進行CVD實驗可(kě)點擊下圖選購(gòu)無油渦旋真空泵
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混氣系統
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· 可(kě)選購(gòu)氣液混合裝(zhuāng)置,用(yòng)于CVD系統 · 可(kě)選購(gòu)恒溫控制模塊
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更新(xīn)觀念
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· 您可(kě)采用(yòng)ALD設備搭建等離子增強原子層沉積+化學(xué)氣相沉積系統(PE-ALD+CVD)和等離子增強原子層沉積+物(wù)理(lǐ)氣相沉積+化學(xué)氣相沉積系統(PE-ALD+PVD+CVD),用(yòng)于生長(cháng)各類材料 · ( PE-ALD+CVD) ( PE-ALD+PVD +CVD)
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質(zhì)保期
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一年保質(zhì)期,終身維護(不包含爐管,加熱元件和密封圈)
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質(zhì)量認證
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· 如您另付費用(yòng),我們可(kě)保證單台儀器通過TUV(UL61010)或CSA認證
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注意事項
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· 爐管内氣壓不可(kě)高于0.02MPa · 由于氣瓶内部氣壓較高,所以向爐管内通入氣體(tǐ)時,氣瓶上必須安(ān)裝(zhuāng)減壓閥,建議在本公(gōng)司選購(gòu)減壓閥,本公(gōng)司減壓閥量程為(wèi)0.01MPa-0.1MPa,使用(yòng)時會更加精(jīng)确安(ān)全 · 當爐體(tǐ)溫度高于1000℃時,爐管内不可(kě)處于真空狀态,爐管内的氣壓需和大氣壓相當,保持在常壓狀态 · 進入爐管的氣體(tǐ)流量需小(xiǎo)于200SCCM,以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊 · 點擊此處了解如何選擇本公(gōng)司石英/陶瓷管以及管式爐真空法蘭 本公(gōng)司有(yǒu)權随時修改PE-CVD系統的設計不再另行通知,但我們保證修改之後的儀器質(zhì)量可(kě)以達到和超過上述标準
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