碳化矽是全球最先進的第三代半導體(tǐ)材料。和第一代的矽、第二代的砷化镓材料相比,它具(jù)有(yǒu)耐高壓、高頻、大功率等優良的物(wù)理(lǐ)特性,是衛星通訊、高壓輸變電(diàn)、軌道交通、電(diàn)動汽車(chē)、通訊基站等重要領域的核心材料。科(kē)晶聯盟提供全套碳化矽基片研發的全套設備, 為(wèi)新(xīn)一代碳化矽基片的開發助力。



編 号

設備名(míng)稱 &  P/N

照 片


用(yòng) 途


1

100T壓機

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将粉末預壓成圓片以便均勻蒸發或融化

2


SiC 晶體(tǐ)生長(cháng)



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TSSG                  Sublimation

真空感應加熱晶體(tǐ)生長(cháng)爐( 2000 -2400oC)

· 頂部籽晶溶液生長(cháng)

· 升華外延生長(cháng)

3

高溫退火爐

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1600 – 1800oC

+/- 0.1 C 精(jīng)度

4

單晶定向

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晶體(tǐ)定向

5

SiC晶片切割


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金剛石線(xiàn)精(jīng)确切片

6

SiC基片外延抛光

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光潔度 《 10A

7

等離子& 臭氧清洗

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外延薄膜生長(cháng)前去除表面污染

8

晶片包裝(zhuāng)盒

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安(ān)全包裝(zhuāng)盒運輸




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