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雙盤壓力研磨抛光機
- 型号：
- UNIPOL-1000D
- 産(chǎn)品概述：
- UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨抛光機主要用(yòng)于材料研究領域，廣泛使用(yòng)于大專院校、科(kē)研院所實驗室的金屬、陶瓷、玻璃、岩樣、礦樣、有(yǒu)機高分(fēn)子材料、複合材料等材料樣品的自動研磨抛光，以及工(gōng)廠的小(xiǎo)規模生産(chǎn)等。UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨抛光機設有(yǒu)兩個研磨抛光工(gōng)位，可(kě)以分(fēn)别進行研磨、抛光操作(zuò)，既避免了交叉污染，又(yòu)提高了工(gōng)作(zuò)效率。本機采用(yòng)機械加壓模式對被研磨樣品加壓，壓力施加于載物(wù)盤的中(zhōng)心，使整個載物(wù)盤受力均勻。通過手觸控制屏對設備進行控制，上盤可(kě)以進行順時針旋轉也可(kě)以進行逆時針旋轉，下盤作(zuò)順時針旋轉，通過樣品盤的材質(zhì)不同可(kě)以選擇上盤的旋轉方向。機器工(gōng)作(zuò)過程中(zhōng)噪音小(xiǎo)，具(jù)有(yǒu)研磨定時功能(néng)，時間到機器自動停止，可(kě)以實現無人看守工(gōng)作(zuò)。
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本站産(chǎn)品介紹内容（包括産(chǎn)品圖片、産(chǎn)品描述、技(jì )術參數等）僅用(yòng)于宣傳用(yòng)途，僅供參考。由于更新(xīn)不及時和網站不可(kě)預知的BUG可(kě)能(néng)會造成數據與實物(wù)的偏差，請勿複制或者截圖。如果您對參數有(yǒu)異議，或者想了解産(chǎn)品詳細信息及更多(duō)參數，請與本公(gōng)司銷售人員聯系。本站提供的信息不構成任何要約或承諾，請勿将此參數用(yòng)于招标文(wén)件或者合同，科(kē)晶公(gōng)司會不定期完善和修改網站任何信息，恕不另行通知，請您諒解。
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技(jì )術參數産(chǎn)品視頻實驗案例警示/應用(yòng)提示配件詳情
| 産(chǎn)品型号
|
UNIPOL-1000D |
| 安(ān)裝(zhuāng)條件
|
本設備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用(yòng)。 1、水：設備配有(yǒu)上水口及下水口，需自行連接自來水及排水 2、電(diàn)：AC220V 50Hz，必須有(yǒu)良好接地 3、氣：無。 4、工(gōng)作(zuò)台：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上 5、通風裝(zhuāng)置：不需要 |
| 主要特點
|
1、設有(yǒu)兩個研磨抛光工(gōng)位，可(kě)分(fēn)别進行研磨、抛光操作(zuò)。 2、中(zhōng)心加載壓力，壓力穩定可(kě)靠。 3、性能(néng)優良，操作(zuò)簡單，适用(yòng)範圍廣。 |
| 技(jì )術參數
|
1、電(diàn)源：220V 50Hz 2、載物(wù)盤：Ø150mm 3、桃型孔：Ø25.4mm 4、磨抛盤：Ø250mm 5、載物(wù)盤（上盤）轉速：10rpm-80rpm（無級調速） 6、磨抛盤（下盤）轉速：50rpm-400rpm（增量調速，最小(xiǎo)增量10） 7、壓力：0.5kg-20kg（最小(xiǎo)增量0.5kg） |
| 産(chǎn)品規格
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尺寸：780mm×590mm×750mm；重量：100kg |
| 标準配件
|
1 | 鑄鋁抛光盤 | 2個 | 
| 2 | 平載物(wù)盤 | 1個 | 
| 3 | 桃型孔載物(wù)盤 | 1個 | 
| 4 | 磁力片 | 4片 | 
| 5 | 研抛底片 | 6片 | 
| 6 | 砂紙（240#、400#、800#、1500#） | 各2片 | 
| 7 | 抛光墊（磨砂革、合成革、聚氨酯） | 各2片 | 
| 8 | 金剛石抛光膏（W2.5） | 1支 | 
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| 可(kě)選配件
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1、SKZD-2滴料器 2、SKZD-3滴料器 3、SKZD-4自動滴料器 4、YJXZ-12攪拌循環泵 5、精(jīng)密測厚儀 6、GPC-50A精(jīng)密磨抛控制儀 7、陶瓷研磨盤 8、玻璃研磨盤
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