晶體(tǐ)生長(cháng)_知識中(zhōng)心_資料支持_應用(yòng)技(jì )術實驗室__合肥科(kē)晶材料技(jì )術有(yǒu)限公(gōng)司

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A-Z晶體(tǐ)及材料加熱爐系列樣品處理(lǐ)設備電(diàn)池制備設備分(fēn)析檢測設備其他(tā)實驗室設備技(jì )術支持/服務(wù)培訓

加熱爐設備
晶體(tǐ)及材料
破碎/球磨設備
壓片設備
輥壓設備
切割設備
磨抛設備
清洗設備
電(diàn)池研發設備
薄膜制備
配件
其它實驗室設備

熱處理(lǐ)設備: 管式爐箱式爐箱管混合

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加熱方式: 電(diàn)阻加熱紅外燈管加熱感應加熱微波加熱

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加熱形式: 常規爐立式箱管混合式回轉爐

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加熱溫度: 300-1200 1250-1500 1600-2000

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加熱溫區(qū): 單溫區(qū) 雙溫區(qū) 三溫區(qū) 多(duō)溫區(qū) 感應加熱專用(yòng)

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管徑: ф‍25 ф‍50 ф‍60 ф‍80 ф‍100 ф‍120及以上

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晶體(tǐ)生長(cháng)

·布裏奇曼法

·水平結晶法

·液體(tǐ)封裝(zhuāng)提拉法-LEC

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晶體(tǐ)生長(cháng)基本方法——坩埚下降法

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晶體(tǐ)生長(cháng)基本方法——水平布裏奇曼法

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